磁控濺射式高真空捲繞鍍膜機

☑ 卷對卷磁控濺射鍍膜是一種先進的薄膜鍍膜技術，可以在柔性基材上連續沉積均勻的鍍層，廣泛應用於需要大面積柔性基材的行業。

☑該工藝在高真空環境下進行，能最大限度地減少污染並確保高品質的鍍膜。高能離子（通常為氬氣）在等離子體環境中轟擊靶材。磁場進一步增強了電離效率與等離子體密度，從而提高濺射效率。濺射出的靶材原子飛向基材並沉積在上面，基材連續移動實現均勻鍍層。配置的光學感測器可以即時監測鍍層厚度，進一步確保其均勻性。

☑磁控濺射工藝可在金屬、合金、陶瓷等多種基材上鍍膜，具有高沉積率、膜層與基體附著力強、膜層高密度、高純度、均勻的特點。