我司已成功研發捲繞式磁控濺射真空鍍膜機

捲繞式磁控濺射真空鍍膜機的工作原理：

磁控濺射真空鍍膜機基於電場、磁場和電離氣體粒子之間的相互作用，將材料從固體靶（鍍膜材料）轟擊到基材上。

當真空室被抽到高真空環境後，向真空室注入惰性氣體，通常是氬氣。在陰極靶材和陽極之間施加高壓直流電。電壓使氬原子電離，剝離電子後形成由帶正電的氬離子和自由電子組成的等離子體。

等離子體中的氬離子在電場作用下加速沖向帶負電的靶材。當離子與靶碰撞時，其動量傳遞給靶材原子，轟擊出靶材原子。這些被轟擊出的靶材原子在基材表面上凝結，形成均勻、緻密且附著力強的薄膜。

磁控濺射的核心特徵在於靶材後方磁體產生的磁場。該磁場將電子束縛在靶材表面附近，迫使其沿螺旋路徑運動。這種約束增加了電子與離子的碰撞概率，從而提升等離子體密度和電離效率。因此，與傳統濺射方法相比，有更多離子轟擊靶材，顯著提高了濺射速率。

磁控濺射的優點：

高品質薄膜： 由於磁控濺射高沉積率的特點，能製備出高純度、緻密、均勻、附著力優異的薄膜。

材料通用性： 適用於金屬、合金、陶瓷等多種材料。